26~27일 제주 라마다호텔…연구회 창립기념식 동시 열려

차세대 반도체 플랫폼으로 각광받고 있는 산화갈륨기술의 현재와 미래를 살필 수 있는 자리가 마련됐다.

한국전기전자재료학회(회장 장건익)와 산하 한국산화갈륨기술연구회는 26일부터 27일까지 제주 라마다호텔에서 ‘제1회 한국산화갈륨기술연구회 창립기념 및 전문학술워크숍’을 개최했다.

연구회에 따르면 산화갈륨은 질화갈륨과 탄화규소 등 와이드-밴드갭(WDG;Wide-bandgap) 반도체 기술보다 밴드갭이 더 넓고 우수해 내환경 센서, 단파장 광소자, 고성능 전력반도체 등 다양한 응용을 위한 차세대 WDG 반도체 플랫폼으로 각광받는 신소재다.

전기전자재료학회와 산화갈륨기술연구회는 최근 국내 중장기 산화갈륨기술개발 국책사업을 계기로 개방적 연구문화를 통한 기술 국산화와 글로벌 신시장 창출·선점의 가속화에 기여하기 위해 지난해 12월 연구회를 설립했으며, 이번 워크숍을 통해 창립을 축하하고 관련 기술을 공유하기로 했다.

이 자리에서는 연구회 창립 기념식과 함께 ▲산화갈륨 에피 기술 ▲산화갈륨 소자 및 응용기술 등 2개 분야를 주제로 한 발표 세션이 진행됐다.

또 산화갈륨 기반 소재·응용디바이스의 발전 방향 토론과 1차연도 연구수행 결과 및 2차연도 연구수행 상세계획 논의 등이 이어졌다.

문재경 산화갈륨연구회 전문학술워크숍 위원장은 “산화갈륨 기술은 소재강국 일본을 선두로 미국, 유럽 등에서 연구개발을 활발하게 진행하고 있지만 아직 글로벌 초기단계에 그치고 있다”며 “국내 산화갈륨기술이 보다 발전하고, 실질적인 결실을 맺기 위한 첫걸음으로 이번 워크숍을 개최했다”고 밝혔다.